Mitsubishi Chemicals vs. Mitsui Chemicals

Mitsubishi Chemicals vs. Mitsui Chemicals　新年の化学工業界、機能性材料知財開発の活況
弁理士　佐成　重範 sanaripat@nifty.com Google検索SANARI PATENT
別サイト http://patentsanari.cocolog-nifty.com/blog/　2008-1-13 オ－プンイノベ－ション

１． 三井化学と三菱化学の年頭
1-1 三井化学の藤吉建二社長は、年頭の挨拶で次のように述べている。（SANARI PATENT要約）
1-1-1 原燃料価格が歴史的高値に上昇し、厳しい事業環境であるが、「事業構造の変革と収益力の強化」をキ－ワ－ドとした中期計画（新年３月に至る）の累計営業利益は、計画を上回る見込みである。
1-1-2 昨年は、機能材料事業と先端化学品事業において市原工場第３EPTプラント設置、積水化学からトナ－樹脂事業を譲受、三共アグロを100%子会社化、ポリプロピレン自動車材事業の既存拠点（北米・タイ・中国）の能力増強とインド新会社設立などを実施。
1-1-3 また、戦略研究開発プロジェクトとして、多目的セミコマ－シャルプラントおよび高機能フィルムセンタ－を設置し、機能材料事業における新製品開発加速に取組んだ。
1-1-4 新年は、機能材料事業、先端化学品事業、基礎化学品事業の３軸のバランスのとれた経営の確立と新技術創出に取組む。
1-2 三菱化学は、三菱樹脂および田辺三菱製薬と共に三菱ケミカルホ－ルディングスを構成しているが、三菱ケミカルホ－ルディングスの小林喜光社長は年頭挨拶において、鹿島事業所火災、薬害Ｃ型肝炎、塩ビ管価格カルテル問題などに対処し、社会的信頼を維持しつつグル－プの事業を展開することを強調した。

２． 三菱化学、三井化学の特許公開（新年初）
2-1 三菱化学の事例（SANARI PATENT要約）
2-1-1 半導体発光デバイス用部材およびその製造方法、並びにそれを用いた半導体発光デバイス（特許公開日2008-1-10）
透明性、耐光性、耐熱性に優れ、長期間使用してもクラックや剥離を生ずることなく半導体発光デバイスを封止し、蛍光体を保持できる、新しい半導体発光デバイス用部材を提供する。
2-1-2 発光素子および発光素子モジュ－ル（特許公開日2008-1-10）
基板が発光波長に対して透明である場合に確認される基板由来の導波モ－ドに関わる発振波長の強度変調を抑制し、優れた光出力直線性と外部共振器との結合特性を示す発光素子を提供する。
2-1-3 光情報記録システムおよび光情報記録媒体（特許公開日2008-1-10）
フォトクロミック化合物を利用した書き換え型の光情報記録媒体において、全ての処理に同一の光源を用いることにより、記録ヘッドひいては記録システム全体を簡素化する光情報記録媒体およびこれを有する光情報記録システムを提供する。
2-2 三井化学の事例（SANARI PATENT要約）
2-2-1 半導体ウェハダイシング用保護シ－トおよびそれを用いた半導体ウェハダイシング方法（特許公開日2008-1-10）
半導体ウェハの回路形成面に非常に大きな凸凹を有するものをダイシング加工する場合であっても、半導体ウェハの破損を防止できる半導体ウェハダイシング用保護シ－トおよびそれを用いた半導体ウェハダイシング方法を提供する。
2-2-2 半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルムおよびそれを用いた半導体ウェハの裏面研削方法（特許公開日2008-1-10）
半導体ウェハの裏面研削に際してウェハと粘着剤層との間への水等の浸入が抑制され、ウェハ表面の汚染も抑制できる半導体ウェハの裏面研削用粘着フィルムおよびそれを用いた半導体ウェハの裏面研削方法を提供する。
2-2-3 半導体ウェハの加工方法およびそれに用いる半導体ウェハ加工用粘着フィルム、並びに、半導体ウェハ加工用粘着フィルムの製造方法（特許公開日2008-1-10）
フィルム物性の経時的な変化を抑制すると共に、被着体（半導体ウェハ）への汚染を抑制できる半導体ウェハ加工用粘着フィルム、およびそれを用いた半導体ウェハの加工方法を提供する。

３． SANARI PATENT所見
　　野村證券・東洋経済の会社四季報によれば、
3-1 三菱ケミカルズホ－ルディングスは、綜合化学国内首位。機能商品に特色。販価上昇で石油化学好調。
3-2 三井化学は、三井系の綜合化学企業。石油化学の比重大。特にポリプロピレンは国内首位。機能性材料強化。
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Mitsubishi Chemicals、 Mitsui Chemicals、ポリプロピレン、半導体ウェハ