2011年2月5日土曜日

次回特許法改正の主要項目

弁理士 佐成 重範 Google検索 SANARI PATENT
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知的財産権制度の国際調和とイノベーション即応の見地から、特許法改正の検討はほとんど年中行事のようになっているが、次期改正の要点は実質的に、経済産業省産業構造審議会知的財産部会制度小委員会の議事(2011-02-01)によって明らかだから、その内容(SANARI PATENT要約)を考察する。
1. 特許権活用の促進について、「ライセンス登録対抗制度の見直し」「独占的ライセンスの在り方」「特許を受ける権利を目的とする質権設定の解禁」
2. 紛争の効率的・適正な解決について、「特許の有効性判断についてのダブルトラックの在り方」「侵害訴訟の判決確定後の無効審判等による再審の取扱」「無効審判ルートにおける訂正の在り方」「同一人による複数の無効審判請求の禁止」「審決・訂正の部分確定/訂正の拒否判断の在り方」
3. 権利者の適切な保護について、「差止請求権の在り方」「冒認出願に関する救済措置の整備」「職務発明訴訟における証拠収集・秘密保護手段の整備」
4. ユ-ザ-の利便性向上について、「特許法条約との整合に向けた救済手続の導入」「大学・研究者等にも容易な出願手続の在り方」「グレースピリオドの在り方」「特許料金の見直し」
以上について所要の改正を行うが、「大学・研究者等にも容易な出願手続の在り方」は、発明振興による経済成長のため特に重要である。発明の内容は、発明者である大学・研究者等が最も熟知しているべきことは当然で、その内容を出願に表現する方法が難渋であることは全く本末転倒である。
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